黄仁勋：中国2030搞定国产先进光刻
主要观点：黄仁勋（Jensen Huang）在All-In峰会上表示，中国有望在2030年前自主研发先进的光刻系统。他补充说，中国具备强大的量产能力，国产设备进入本地晶圆厂只是时间问题。这个观点比蔡司的更为乐观，蔡司的Frank Rohmund表示国产EUV设备可能还需要大约15年；黄仁勋在被问及“先进光刻系统”时并未具体提及EUV。
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黄仁勋预测中国有望在2030年前实现先进光刻系统的自主研发，观点较蔡司更为乐观。
他认为中国具备强大的量产能力，国产设备进入本地晶圆厂只是时间问题。
黄仁勋所言的“先进光刻系统”并未特指EUV技术，与蔡司关于EUV需15年的判断存在差异。
常见问题
黄仁勋认为中国何时能实现先进光刻的自主研发？▼
黄仁勋的观点与蔡司的看法有何不同？▼
黄仁勋提到的“先进光刻系统”是否包含EUV光刻技术？▼
黄仁勋如何看待中国国产光刻设备的量产前景？▼
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